光刻胶废气怎么净化？光刻胶废气成分有哪些？

光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种光照后能改变抗蚀能力的高分子化合物。一般情况下，光刻胶是带有芳香味的具有一定黏度及颜色的液体。在半导体制造行业，光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。光刻胶的作用是将光刻板上的图形转移到硅片表面的氧化层中，在后续工序中，保护下面的材料。那么，光刻胶废气怎么净化？光刻胶废气成分有哪些？格林斯达环保公司为您介绍如下：

光刻胶废气成分

光刻胶废气成分是VOCS有机废气，在光刻、显影、刻蚀及扩散等工序，在这些工序中要用有机溶液(如异丙醇)对晶片表面进行清洗，其挥发产生的废气是有机废气的来源之一；同时，在光刻、刻蚀等过程中使用的光阻剂(光刻胶)中含有易挥发的有机溶剂，如醋酸丁酯等，在晶片处理过程中也要挥发到大气中，是VOCs废气产生的又一来源。

光刻胶废气处理

目前国内半导体行业光刻胶有机废气处理，与其它有机废气收集后采用预处理+沸石转轮吸附浓缩+直接燃烧TO废气处理解决方案。沸石转轮吸附浓缩是利用多孔性固体吸附剂处理混合气体，使其中所含的一种或多种组分吸附在固体表面，达到分离的目的，浓缩比达20﹕1，运行费用较低，设备处理风量大，占地面积小，不产生二次污染，可持续脱附并处理污染物。该方法特别适用于大风量、低浓度、常温的有机废气处理，净化效率达到90％以上，可保证废气达标排放。

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